熒光染料偶聯二抗的光物理性質及其對超高分辨率成像的影響

熒光染料偶聯二抗的光物理性質及其對超高分辨率成像的影響

內(nei) 容簡介：
本文聚焦於(yu) 熒光二抗的核心組成部分——熒光染料（Fluorophore）。文章係統介紹了常用染料（如Alexa Fluor係列、Cy係列、DyLight係列）的分子結構、激發/發射光譜、斯托克斯位移（Stokes Shift）、熒光亮度（Brightness）、光穩定性（Photostability）等關(guan) 鍵光物理性質。重點探討了這些性質如何直接影響超高分辨率顯微鏡（如STED, STORM, PALM）的成像質量、分辨率和信噪比。文章詳細分析了在選擇染料時需考慮的激光器匹配、濾片組配置、多色實驗中的光譜分離等實際問題，並闡述了Jackson公司提供的多種染料偶聯選項如何為(wei) 前沿成像研究提供關(guan) 鍵工具支持。

關(guan) 鍵詞： 熒光染料，光物理性質，超高分辨率顯微鏡，斯托克斯位移，光穩定性